我国光刻胶领域新突破揭示微观结构

来源：未知日期：2025-10-28 09:53 浏览()

光刻技术是集成电路芯片制造工艺持续微缩的主要驱动力之一。北京大学化学与分子工程学院彭海林教授团队及其合作者利用冷冻电子断层扫描技术，首次原位研究了液体环境中光刻胶分子的微观三维结构、界面分布和行为行为。这一发现指导了可显着减少光刻缺陷的工业解决方案的开发。相关研究成果发表在《Nature Communications》上。

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